На виробничій лінії гарним рішенням є використання покриттів, які забезпечують стабільну якість поверхні, а не таких, які призводять до проблем у майбутньому. Коли покриття не встигає застигнути, це означає необхідність перерв у роботі, додаткової обробки та марнування енергії. Ми створили цю лампу для УФ-висушування саме для цих цілей – щоб забезпечити послідовний та потужний вплив на поверхню покриття.
Що має значення з технічної точки зору
Ми фокусуємося на довжині хвилі 365 нм – саме ця довжина хвилі ефективно активує фотоініціатори в епоксидних, поліуретанових та гібридних покриттях. На відстані 20 мм інтенсивність випромінювання досягає 1200 мВт/см², що забезпечує щільність енергії понад 1500 мДж/см² під час одного проходу по типових шарах товщиною 100–200 мкм. Щільність потужності налаштована так, щоб забезпечити процес скріплення молекул без пошкодження поверхні.
Лампа зберігає стабільність параметрів випромінювання на рівні ±3% протягом 2000 годин. Це досягається завдяки високовідбивному дихроїчному відбивачу та кварцовій оболонці, вільній від озону. Лампа запускається миттєво, тож немає необхідності чекати, поки вона нагріється. Спектральна структура випромінювання залишається стабільною, що дозволяє досягати бажаних результатів без постійної налаштування лампи.
Чому цей пристрій є ефективним на виробничій лінії
Лінії для нанесення покриттів працюють дуже швидко, і саме процес висушування визначає швидкість роботи. За допомогою цієї системи можна наносити покриття з швидкістю 15–25 м/хв на середньої товщини, без утворення шарів розчину. Поверхня швидко стає придатною для подальшої обробки. Витрати енергії є меншими, ніж при використанні гарячого повітря чи інших методів. Також збільшується термін служби лампи, що скорочує час на її заміну.
Кількість мікродефектів зменшується – не виникає проблем з прилипанням покриття чи інших дефектів – оскільки інтенсивність випромінювання є однаковою по всій поверхні.
Деталі, які забезпечують надійність пристрою
Лампу потрібно встановлювати на спеціальну лінію живлення 240 В. Також необхідно забезпечити правильний потік повітря, щоб температура кварцового елемента не перевищувала 650°C. Відбивач потрібно підтримувати в чистоті – інтенсивність випромінювання значно знижується, якщо відбивач забруднений.
Необхідно також узгодити хімічний склад основи з постачальником покриття. Кількість пігментів та вибір фотоініціатора можуть вплинути на необхідну дозу випромінювання. Якщо використовуються товсті чи непрозорі покриття, потрібно використовувати дві лампи чи підвищити інтенсивність випромінювання. Також необхідно враховувати швидкість роботи лінії та коригувати параметри випромінювання за допомогою радіометра.