http://uv-curing-expert.com/pl/tags/pcb/ Recent content in PCB on UV Curing Expert Hugo pl Tue, 28 Jul 2026 10:05:34 +0800 http://uv-curing-expert.com/pl/posts/technical-application-of-gallium-iodide-gai-lamps-in-pcb-photolithography/ Tue, 28 Jul 2026 10:05:34 +0800 http://uv-curing-expert.com/pl/posts/technical-application-of-gallium-iodide-gai-lamps-in-pcb-photolithography/ <p><img src="http://uv-curing-expert.com/images/3acee82699487d3f40754e80f31b41c8.png" alt="Lampa jodku galu dla fabryki PCB"></p> <p>Jak skutecznie projektować schematy na płytach drukowanych przy użyciu lamp UV na bazie galu i jodu<br> Jeśli prowadzisz produkcję płytek drukowanych, doskonale wiesz, z czym się mierzymy. Musisz mieć <a href="https://henruite.com">pewno</a>ść, że fotoopór będzie <a href="https://o-yate.com">reagowa</a>ć dokładnie tam, gdzie powinien, a nie gdzie indziej. Wtedy na scenę wchodzą <a href="https://o-yate.net">lampy</a> na bazie galu i jodu (GaI).</p> <p>Te lampy wydzielają bardzo specyficzny, wąski zakres światła UV – zwykle o długości fali około 254 nm. Wybieramy tę długość fali, ponieważ sprawdza się ona dobrze z większością fotooporów typu „sucha folia”. Światło to penetruje folię bez żadnych problemów, bez odbić czy rozpraszania się.</p> http://uv-curing-expert.com/pl/posts/optimizing-pcb-photoresist-curing-with-custom-gallium-iodide-uv-modules/ Mon, 27 Jul 2026 13:46:49 +0800 http://uv-curing-expert.com/pl/posts/optimizing-pcb-photoresist-curing-with-custom-gallium-iodide-uv-modules/ <p><img src="http://uv-curing-expert.com/images/fdbee480fb33f240ebe21b59374e7e95.png" alt="Lampa z jodkiem galu dla fabryki płytek drukowanych"></p> <p>Prawidłowe utwardzanie płytek PCB przy użyciu lamp na jodek galu<br> Jeśli kiedykolwiek miałeś do czynienia z procesem utwardzania <a href="https://o-yate.com">fotorezystu</a>, wiesz, jakie to utrudnienie. Jeśli użyjesz standardowej lampy rtęciowej, będziesz walczyć z falami o długości fali, które nie pasują do wymagań fotorezystu. Dlatego właśnie tworzymy lampy na jodek galu (GaI).<br> Skupiamy energię dokładnie tam, gdzie jest potrzebna – w przedziale od 250 nm do 350 nm. Dzięki temu fotorezyst szybko twardnieje, a jednocześnie substrat nie ulega uszkodzeniu. To znacznie prostszy proces.</p>